Ionized Physical Vapor Deposition

Descrição

Este libro es una guía completa sobre la deposición física de vapor ionizado (I-PVD), una tecnología clave en la fabricación de circuitos integrados. Explora en detalle la tecnología de fuentes de plasma, los sistemas de deposición específicos y las recetas de procesos. Se describen herramientas y procesos como los magnetrones de cátodo hueco de CC, los plasmas acoplados inductivamente de RF y los plasmas de microondas, utilizados para depositar materiales tecnológicamente importantes como cobre, tantalio, titanio, TiN y aluminio. Además, se presentan modelos numéricos verificados experimentalmente que brindan información detallada sobre el diseño y la operación de las herramientas I-PVD. Este libro es un recurso indispensable para ingenieros de procesos, científicos de investigación y desarrollo, y estudiantes.